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晶 納 光 謙
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服务
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我们致力于为各种半导体微纳复刻技术（包括纳米压印、UV光刻、电子束光刻）、刻蚀和成膜等提供解决方案。衬底包括Si（硅），Quartz（石英），SiC（碳化硅）等。
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我们专注于提供卓越的光学解决方案，致力于衍射光学研发、设计、原型机制作以及相应的光学测试。
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我们的专业团队凭借丰富的经验和创新能力，为客户提供高品质的光学镜片、物镜及综合光学系统集成服务。
超透镜原型制作
Meta光学元件（MOE）用于近红外（NIR）、短波红外（SWIR）和可见光（VIS）波段的快速原型制作。我们为您提供从设计到最终产品的一站式服务，实现您的MOE设计，确保快速、高效地交付高质量的元件。
我们的MOE原型制作采用先进的微纳加工技术和后处理工艺，保证了高精度和可靠性。无论您的设计需求如何复杂，我们都能在不同厚度的玻璃基材上制作原型元件，满足您的各种应用需求。我们还提供抗反射涂层（ARC）和滤光片等选项，进一步提升元件性能。
选择我们，您将获得快速的周转时间和卓越的技术支持，确保您的项目顺利推进并获得最佳成果。
光学设计与测试
JNGQ专注于设计光学模块、单个Meta光学元件和衍射光学元件，致力于为您提供卓越的光学解决方案。
在光学模块设计方面，我们采用先进的光线追踪软件进行优化和性能模拟。例如，我们根据视场、总轨迹长度、畸变、调制传递函数（MTF）等光学规格设计金属透镜模块。此外，我们还擅长设计其他类型的模块，如点投影仪和泛光照明器，以满足多样化的需求。
对于光学元件设计，我们依靠自主研发的方法，基于精确求解麦克斯韦方程来开发高性能的金属透镜、DOE透镜、扩散器、扇出光栅等光束整形和控制元件。我们的设计工具在输出光束轮廓的高保真度、零阶光的消失以及元件的高效率方面展现出强大优势。
我们开发了独特的工具，将光线追踪模型与我们内部严格的设计和仿真工具无缝对接，专门用于衍射和Meta光学表面。这使我们能够进行全面的性能和蒙特卡洛模拟，包括实际的Meta或DOE设计，确保每一个设计都经过精细验证。
JNGQ提供全流程服务，从初步设计、原型制作、光学表征到必要时多次迭代，确保最终实现所需功能。我们致力于为客户提供高质量、定制化的光学解决方案，助力您的项目成功。选择JNGQ，体验从设计到实现的无缝对接和卓越品质。
量产化
JNGQ不仅专注于设计和开发光学模块、Meta光学元件和衍射光学元件，还具备将这些产品量产化的能力。
我们先进的制造技术和完善的生产流程，确保高精度设计转化为高质量量产产品。无论是光学模块、金属透镜、DOE透镜、扩散器还是扇出光栅，我们都能在批量生产中保持一致的性能和高效的生产效率。
我们的自主设计和仿真工具，结合严格的质量控制体系，确保每一件产品符合严格的光学规格和性能要求。灵活的生产能力和快速响应的供应链管理，使我们能够满足不同客户的量产需求，助力产品快速推向市场。
选择我们，您将获得从设计到量产的一站式解决方案，帮助您在市场中脱颖而出，实现商业成功。
微纳结构化
我们助力客户将纳米结构产品推向市场，提供一流的代工服务。作为全方位整合的“一站式服务”供应商，我们从原型设计到大规模量产，均能提供高质量的定制纳米结构产品，确保JNGQ（晶纳光谦）成为您和贵公司最重要的战略合作伙伴。
纳米压印
纳米压印（Nanoimprint Lithography, NIL）是一种先进的纳米制造技术，用于在材料表面创建高分辨率纳米级图案。这种技术具有高精度、高效率和相对低成本的特点，被广泛应用于半导体、光学器件、生物传感器和纳米电子学等领域。
光学设计与测试
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UV光刻
■ 【量产级 】实绩关键参数 @12inch Wafer（Φ300mm）
※非 实验室样品级（Lab level Sample）
Pitch： ≥ 60nm
Line width： ≥ 25nm
我们能够为您提供全面的光刻 / 曝光解决方案，涵盖了多种先进的光刻技术，包括EB电子束、i-line、KrF和ArF。无论您的项目需要何种技术和规模，我们都致力于为您提供高质量、高效率的光刻代加工服务。
电子束光刻
电子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）是一种高分辨率的微纳米制造技术，用于在表面上创建极小尺寸的图案和结构。它使用高能电子束来直接写入或刻蚀图案，适用于制造半导体器件、光学元件、生物芯片以及纳米技术领域的研究和生产。
刻蚀和成膜
在半导体制造和微纳米加工中，刻蚀（etching）和成膜（deposition）是两种常见的工艺步骤，用于加工材料表面以创建所需的结构和图案。这些工艺步骤通常结合使用，以在半导体器件制造和其他微纳米加工应用中实现复杂的结构和功能要求。刻蚀和成膜技术的发展和优化对于提高器件性能、增强功能集成和减少制造成本至关重要。包括：物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）、化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）及原子层沉积（Atomic Layer Deposition, ALD）。
