产品与技术 ˇ

产品与技术

我们凭借突破性的技术，在匀光扩散、光配向、光学偏振、脉冲放大（Chirped pulse amplification, CPA）、编码器、光栅尺、基因测序、PSS for LED、CGH、DOE、聚焦透镜和波导方面提供领先的光学传感、成像和显示解决方案。

我们的核心优势在于衍射光学元件、线栅、超透镜以及衍射光栅（如闪耀光栅和倾斜光栅）的开发和应用。

我司同时致力于提供高品质的半导体级工业精密陶瓷结构件、多孔陶瓷及碳化硅真空吸盘/卡盘（PinChuck）产品，满足各类高性能应用需求，广泛应用于先进半导体、高端自动化、精密电子、化工等领域。

超透镜/超光学

Metalens（超透镜）是一种使用超材料技术制造的先进光学透镜。它与传统的光学透镜不同，利用纳米尺度的结构来操控光的传播和聚焦。通过精确设计纳米结构的形状、大小和排列，Metalens可以在一个非常薄的平面上实现对光波前的相位调制，聚焦和成像效果优于传统透镜。

衍射光学元件、物镜及曝光照明系统

我们不仅代理提供海内外标准化品牌光学元器件、物镜和显微镜，同时也提供光学定制化服务，涵盖物镜、镜片、光学模组、DOE等衍射光学器件及系统的设计与开发。凭借长期的行业经验，我们致力于解决您的产业痛点，为您提供最佳光学解决方案。

详细

光波导 AR/MR

光波导是增强现实设备的核心技术之一，通过高效的光学设计，使得虚拟信息与现实世界的无缝融合成为可能。它通过导引光线来传输图像，使用户可以看到叠加在真实世界上的虚拟信息。我司的研发设计及微纳工艺长期获得全球知名消费电子产品公司的合作支持。

线栅 / WGP

我们专业提供：金属氧化物线栅（Wire Grid Polarizer, WGP）
专业提供宇航、半导体光刻行业中使用的，DUV（深紫外型）线栅（波长在193nm至220nm）

详细

光栅

光栅（diffraction grating）是一种光学元件，用于分离和分析光的波长。它由许多平行的刻痕或线条组成，这些刻痕或线条可以是刻在反射性材料上的，也可以是刻在透明材料上的。光栅通过衍射和干涉作用将入射光分解成其组成的波长，形成光谱。其是现代光学和光子学中的重要工具，通过高效分离光的不同波长，广泛应用于科学研究、工业检测和通信等领域。

详细

主模及掩膜板 / 光罩

【纳米压印主模】（nanoimprint master mold）是用于纳米压印光刻技术（Nanoimprint Lithography, NIL）中的关键工具。纳米压印光刻是一种制造纳米级结构的高精度技术，通过将主模上的微纳米图案压印到软材料（如聚合物）上，实现图案转移。【掩膜版/光罩】（Photomask）是一种用于光刻工艺的高精度平板工具，主要用于微电子制造和半导体器件的生产。掩膜版光罩通过光刻技术将图案转移到硅片或其他基材上，形成所需的电路图形。

半导体精密陶瓷

微孔/多孔陶瓷

多孔陶瓷在真空吸附和气浮平台中的应用主要利用其独特的孔隙结构和物理特性。【多孔陶瓷吸盘】通过其微小孔隙产生强大的吸附力，当真空泵抽走吸盘与工件之间的空气时，形成负压，产生强大的吸附力，将工件牢固地固定在吸盘上。【气浮平台】利用多孔陶瓷的微小孔隙通过压缩空气产生气膜，将工件浮起，从而实现无摩擦或低摩擦的支撑和移动。这种方式有效减少了机械接触带来的摩擦和磨损。

碳化硅陶瓷半导体真空吸盘/卡盘

碳化硅陶瓷半导体真空吸盘是一种专门用于半导体制造过程的高性能真空夹具，采用碳化硅（SiC）陶瓷材料制成。它结合了碳化硅陶瓷的优异性能和真空吸附技术，为半导体制造提供了高精度、高耐久性和高洁净度的解决方案。

工业精密陶瓷

从原料到成品实行一贯生产，主要向国内外的半导体制造行业提供产品。使用通过自身高纯度化技术，极限去除杂质的碳化硅（SiC）作为原料，并通过严格管理的生产工艺和独自技术制造产品。我们的产品除了具有陶瓷材料的耐热、耐腐蚀、高刚性、高硬度、高强度等特性外，还实现了高纯度、高热导率等附加特性，因此适用于要求严格的半导体制造设备。

拥有独特的成形、接合技术和热处理技术，能够以高精度制造出传统陶瓷无法实现的复杂形状产品以及超过3米的大型产品。此外，拥有多个大型特殊高温炉，能够满足随着半导体制造设备大型化对大型部件的需求。

欢迎发送消息给我们，我们会尽快回复您

您也可以发送邮件至contact@jngqsemi.com或添加微信：blueralph4。